PLATIT Pi411 G3 — гибкая производственная установка ПВД-покрытий с поддержкой arc PVD, магнетронного распыления, HiPIMS и PECVD в одной камере. Объём покрытия ø540×H500 мм, нагрузка 200 кг, карусель до 14 осей.

Характеристики могут отличаться в зависимости от модификации. Для получения точной информации свяжитесь с нами.
PLATIT Pi411 G3 — флагманская гибкая установка нанесения ПВД-покрытий PLATIT AG, обеспечивающая доступ к широчайшему спектру технологий в единой камере. Модульная конфигурация катодов позволяет наносить дуговые, напылительные, гибридные и PECVD-покрытия без переоснастки машины.
Технология ECO (3 катода LARC в двери) — основная конфигурация для дуговых покрытий TiN, TiAlN, AlTiN, CrN и других. Модуль LARC RM добавляет магнетронный катод для плотных безкапельных напылительных покрытий. Конфигурация SCIL обеспечивает высокопроизводительное центральное распыление. FMS (Focused Magnetron Sputtering) максимизирует плотность покрытия. Гибридная технология LACS позволяет одновременно вести дуговое и магнетронное нанесение в единой камере — уникальная возможность для многослойных покрытий с переменным составом.
Опциональный модуль PECVD (DLC2) открывает возможность нанесения алмазоподобных покрытий a-C:H:Si с твёрдостью до 3500 HV. Модуль OXI обеспечивает нанесение оксидных PVD-покрытий с корундовой структурой (Al₂O₃) — альтернатива CVD для режущего инструмента.
Карусельная система с 1–14 осями обеспечивает равномерное вращение инструментов любой геометрии. Программное обеспечение PLATIT SmartSoftware с открытыми рецептурами позволяет технологу формировать собственные многослойные архитектуры покрытий.
Заполните форму ниже, и наши специалисты свяжутся с вами для консультации и предоставления актуальной информации о цене и наличии.