PLATIT AG

PLATIT Mega-PiMS

PLATIT Mega-PiMS — специализированная ПВД-установка для нанесения покрытий на роликовые и вращающиеся компоненты диаметром до ø600 мм и длиной до 3000 мм. Нагрузка до 1000 кг. Горизонтальное расположение заготовки, нижний катод, низкотемпературный процесс. Для прокатных валков, цилиндров, осей.

Цена по запросу
Запросить цену
PLATIT Mega-PiMS — специализированная ПВД-установка для покрытия роликовых и цилиндрических компонентов длиной до 3000 мм

Технические характеристики

Применение
исключительно роликовые и цилиндрические компоненты крупного формата
Тип установки
специализированная ПВД-установка для роликов и вращающихся компонентов (горизонтальная загрузка)
Производитель
PLATIT AG (Зельцах, Швейцария)
Температура процесса
низкотемпературный (< 200°C) — для компонентов из HSS
Технологии нанесения
расширенное магнетронное распыление (Advanced Sputtering), нижний катод, горизонтальное вращение заготовки
Максимальная нагрузка
1000 кг
Диапазон размеров компонентов
ø100×450 мм — ø600×3000 мм
Габаритные размеры установки (Ш × Г × В)
4100 × 2900 × 2700 мм
Максимальная равномерно покрываемая длина
2000 мм
Габаритные размеры шкафа управления (Ш × Г × В)
1900 × 1100 × 2200 мм

Характеристики могут отличаться в зависимости от модификации. Для получения точной информации свяжитесь с нами.

Подробное описание

PLATIT Mega-PiMS — специализированная ПВД-установка нанесения покрытий производства PLATIT AG (Зельцах, Швейцария), разработанная для компонентов, размеры которых исключают использование стандартных вертикальных камер. Mega-PiMS обрабатывает вращающиеся компоненты — валки, цилиндры, оси, барабаны — диаметром ø100–600 мм и длиной до 3000 мм, которые физически не помещаются ни в одну стандартную камеру PLATIT.

Горизонтальное расположение заготовки с нижним катодом и вращением компонента вокруг горизонтальной оси обеспечивает равномерное нанесение покрытия по всей длине цилиндра. Максимальная равномерно покрываемая длина составляет 2000 мм. Технология расширенного магнетронного распыления (Advanced Sputtering) с нижним катодом и пространственно однородным распределением плазмы исключает эффект экранирования, характерный для длинных цилиндрических деталей в вертикальных камерах.

Низкотемпературный процесс (< 200°C) позволяет наносить покрытия на компоненты из HSS (быстрорежущая сталь) без потери твёрдости материала и без деформации длинных тонкостенных валков. Нагрузка до 1000 кг охватывает промышленные прокатные валки, гравировальные и полиграфические цилиндры, валки для ламинирования и каландрирования.

Заинтересовал этот товар?

Заполните форму ниже, и наши специалисты свяжутся с вами для консультации и предоставления актуальной информации о цене и наличии.

Необязательно

Необязательно